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Correlation between structural and electrical properties of InN thin films prepared by molecular beam epitaxy

Lebedev, V ; Morales, FM; Cimalla, V; Lozano, JG; Gonzalez, D; Himmerlich, M; Krischok, S; Schaefer, JA; Ambacher, O

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2006
Volumen: 40
Número: 4-6
Páginas: 289 - 294
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus1129-10-2024
wos1029-10-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2006

Journal Impact Factor (JIF): 1.2590

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE31/58Q3T2D6

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,500

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
PHYSICS, CONDENSED MATTER37/74Q2T2D550,68

Año:

2011

CiteScore:

2,300

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Electrical and Electronic Engineering176/589Q2T1D3
General Materials Science115/393Q2T1D3
Condensed Matter Physics145/383Q2T2D4

SJR año:

2006

Factor de Impacto:

0,867

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Electrical and Electronic Engineering90/527Q1T1D2
Materials Science (miscellaneous)78/427Q1T1D2
Condensed Matter Physics116/371Q2T1D4
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# Autor Afiliación
1Lebedev, V Technische Universität Ilmenau (Germany)
2Morales, FMUniversidad de Cadiz (Spain)
3Cimalla, VTechnische Universität Ilmenau (Germany)
4Lozano, JGUniversidad de Cadiz (Spain)
5Gonzalez, DUniversidad de Cadiz (Spain)
6Himmerlich, MTechnische Universität Ilmenau (Germany)
7Krischok, STechnische Universität Ilmenau (Germany)
8Schaefer, JATechnische Universität Ilmenau (Germany)
9Ambacher, OTechnische Universität Ilmenau (Germany)