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STEM Analysis Of Cu(Mn) Self-Forming Diffusion Barriers on SiO2 For Applications In The Semiconductor Industry

Lozano, J. G.; Bogan, J.; Casey, P.; McCoy, A.; Hughes, G.; Nellist, P. D.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2012
Volumen: 18
Páginas: 1842 - 1843
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus013-11-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2012

Journal Impact Factor (JIF): 2.4950

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARYSCIE46/241Q1T1D2
MICROSCOPYSCIE2/9Q1T1D2

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,560

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY152/343Q2T2D555,83
MICROSCOPY6/9Q3T2D738,89

Año:

2012

CiteScore:

1,100

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Instrumentation57/91Q3T2D7

SJR año:

2012

Factor de Impacto:

0,327

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Instrumentation52/102Q3T2D6
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# Autor Afiliación
1Lozano, J. G.University of Oxford (United Kingdom)
2Bogan, J.Dublin City University (Ireland)
3Casey, P.Dublin City University (Ireland)
4McCoy, A.Dublin City University (Ireland)
5Hughes, G.Dublin City University (Ireland)
6Nellist, P. D.University of Oxford (United Kingdom)