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The low temperature deposition of pyrolytic SiO2 for passivating semiconductor power diodes

Albella, J. M.; Criado, A.; Merino, E. Muñoz

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 1976
Volumen: 36
Número: 2
Páginas: 479 - 482
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus321-12-2024
wos522-12-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 1997

Journal Impact Factor (JIF): 1.0340

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCESCIE32/111Q2T1D3
PHYSICS, APPLIEDSCIE27/62Q2T2D5
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE25/45Q3T2D6

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,520

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS8/21Q2T2D464,29
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY161/343Q2T2D553,21
PHYSICS, APPLIED78/165Q2T2D553,03
PHYSICS, CONDENSED MATTER34/74Q2T2D554,73

Año:

2011

CiteScore:

3,400

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Materials Chemistry39/233Q1T1D2
Metals and Alloys13/126Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films14/91Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials41/183Q1T1D3
Surfaces and Interfaces11/49Q1T1D3

SJR año:

1999

Factor de Impacto:

0,900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Metals and Alloys14/148Q1T1D1
Materials Chemistry43/206Q1T1D3
Surfaces, Coatings and Films19/94Q1T1D3
Electronic, Optical and Magnetic Materials37/137Q2T1D3
Surfaces and Interfaces17/46Q2T2D4
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# Autor Afiliación
1Albella, J. M.Universidad Autónoma de Madrid (Spain)
2Criado, A.Universidad Autónoma de Madrid (Spain)
3Merino, E. MuñozEscuela Técnica Superior de Ingenieros de Telecomunicación, Universidad Politécnica de Madrid (Spain)