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The high sensitivity of InN under rare earth ion implantation at medium range energy

Lacroix, B. ; Chauvat, M.P.; Ruterana, P.; Lorenz, K.; Alves, E.; Syrkin, A.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2011
Volumen: 44
Número: 29
Número de artículo: 295402
Acceso abierto: Vía verde
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus1308-06-2024
wos1308-06-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2011

Journal Impact Factor (JIF): 2,544

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, APPLIEDSCIE26/125Q1T1D3

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,620

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
PHYSICS, APPLIED63/165Q2T2D462,12

Año:

2011

CiteScore:

4,400

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Acoustics and Ultrasonics3/36Q1T1D1
Surfaces, Coatings and Films9/91Q1T1D1
Condensed Matter Physics52/383Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials26/183Q1T1D2

SJR año:

2011

Factor de Impacto:

1,266

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Acoustics and Ultrasonics3/38Q1T1D1
Condensed Matter Physics59/397Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials28/177Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films11/104Q1T1D2
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Agencia Código de Proyecto
FCT PortugalPTDC/CTM/100756/2008
Region Basse Normandie-
Nota: los datos sobre financiación provienen de la WOS
# Autor
1Lacroix, B. 
2Chauvat, M.P.
3Ruterana, P.
4Lorenz, K.
5Alves, E.
6Syrkin, A.