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Oxygenated polymeric thin films deposited from toluene and oxygen by remote plasma enhanced chemical vapor deposition

Barranco, A. ; Cotrino, J.; Yubero, F.; González-Elipe, A. R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2003
Volumen: 21
Número: 5
Páginas: 1655 - 1664
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus613-11-2024
wos513-11-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2003

Journal Impact Factor (JIF): 1.6280

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE3/16Q1T1D2
PHYSICS, APPLIEDSCIE16/76Q1T1D3

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,510

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS9/21Q2T2D559,52
PHYSICS, APPLIED82/165Q2T2D550,61

Año:

2011

CiteScore:

2,400

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Surfaces, Coatings and Films27/91Q2T1D3
Condensed Matter Physics142/383Q2T2D4
Surfaces and Interfaces20/49Q2T2D5

SJR año:

2003

Factor de Impacto:

1,271

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Condensed Matter Physics62/341Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films11/101Q1T1D2
Surfaces and Interfaces15/49Q2T1D4
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# Autor Afiliación
1Barranco, A. CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Cotrino, J.Universidad de Sevilla; CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
3Yubero, F.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4González-Elipe, A. R.CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)