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Synthesis of SiO2 and SiOxCyHz thin films by microwave plasma CVD

Barranco, A; Cotrino, J; Yubero, F; Espinos, JP; Benitez, J; Clerc, C; Gonzalez-Elipe, AR 

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2001
Volumen: 401
Número: 1-2
Páginas: 150 - 158
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus5813-11-2024
wos5513-11-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2001

Journal Impact Factor (JIF): 1.2660

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARYSCIE32/170Q1T1D2
PHYSICS, APPLIEDSCIE23/71Q2T1D4
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE18/55Q2T1D4

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,520

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS8/21Q2T2D464,29
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY161/343Q2T2D553,21
PHYSICS, APPLIED78/165Q2T2D553,03
PHYSICS, CONDENSED MATTER34/74Q2T2D554,73

Año:

2011

CiteScore:

3,400

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Materials Chemistry39/233Q1T1D2
Metals and Alloys13/126Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films14/91Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials41/183Q1T1D3
Surfaces and Interfaces11/49Q1T1D3

SJR año:

2001

Factor de Impacto:

1,046

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Metals and Alloys9/147Q1T1D1
Electronic, Optical and Magnetic Materials29/146Q1T1D2
Materials Chemistry30/215Q1T1D2
Surfaces, Coatings and Films13/96Q1T1D2
Surfaces and Interfaces16/49Q2T1D4
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# Autor Afiliación
1Barranco, ACSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
2Cotrino, JUniversidad de Sevilla (Spain)
3Yubero, FCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
4Espinos, JPCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
5Benitez, JCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)
6Clerc, CInstitut de Physique Nucléaire Orsay (France)
7Gonzalez-Elipe, AR CSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)