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Relationship between scaling behavior and porosity of plasma-deposited TiO(2) thin films

Borrás, A. ; Yanguas-Gil, A.; Barranco, A.; Cotrino, J.; González-Elipe, A. R.

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2007
Volumen: 76
Número: 23
Número de artículo: 235303
Páginas: 235303 -
Acceso abierto: Vía verde
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus3413-11-2024
wos2913-11-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2007

Journal Impact Factor (JIF): 3.1720

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE9/61Q1T1D2

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 1,000

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY69/343Q1T1D280,03
PHYSICS, APPLIED31/165Q1T1D281,52
PHYSICS, CONDENSED MATTER15/74Q1T1D280,41

Año:

2011

CiteScore:

6,400

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Condensed Matter Physics24/383Q1T1D1
Electronic, Optical and Magnetic Materials16/183Q1T1D1

SJR año:

2007

Factor de Impacto:

2,892

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Condensed Matter Physics15/377Q1T1D1
Electronic, Optical and Magnetic Materials6/158Q1T1D1
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# Autor Afiliación
1Borrás, A. Universidad de Sevilla (Spain)
2Yanguas-Gil, A.Universidad de Sevilla (Spain)
3Barranco, A.Universidad de Sevilla (Spain)
4Cotrino, J.Universidad de Sevilla (Spain)
5González-Elipe, A. R.Universidad de Sevilla (Spain)