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Oxygen content of YBa2Cu3O6+x thin films during growth by pulsed laser deposition

Lopez, JG ; Blank, DHA; Rogalla, H

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 1998
Volumen: 127
Páginas: 1011 - 1016
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus429-10-2024
wos529-10-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 1998

Journal Impact Factor (JIF): 1.0450

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE4/14Q2T1D3
PHYSICS, APPLIEDSCIE27/66Q2T2D5
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE21/48Q2T2D5
CHEMISTRY, PHYSICALSCIE56/92Q3T2D7

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 1,030

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
CHEMISTRY, PHYSICAL34/156Q1T1D378,53
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS1/21Q1T1D197,62
PHYSICS, APPLIED29/165Q1T1D282,73
PHYSICS, CONDENSED MATTER14/74Q1T1D281,76

Año:

2011

CiteScore:

3,400

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Surfaces, Coatings and Films16/91Q1T1D2

SJR año:

1999

Factor de Impacto:

1,017

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Surfaces, Coatings and Films14/94Q1T1D2
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# Autor Afiliación
1Lopez, JG University of Twente; CSIC-JA-USE - Centro Nacional de Aceleradores (CNA) (Spain)
2Blank, DHAUniversity of Twente (Netherlands)
3Rogalla, HUniversity of Twente (Netherlands)