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Role of the oxygen plasma during in situ growth of YBa2Cu3O6+x thin films by pulsed laser deposition

Lopez, JG ; Blank, DHA; Rogalla, H; Siejka, J

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 1998
Volumen: 307
Número: 3-4
Páginas: 298 - 306
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus829-10-2024
wos729-10-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 1998

Journal Impact Factor (JIF): 1.0860

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
PHYSICS, APPLIEDSCIE26/66Q2T2D4

Año: 2017

Journal Citation Indicator (JCI): 0,350

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecilPercentil
PHYSICS, APPLIED118/165Q3T3D828,79
PHYSICS, CONDENSED MATTER50/74Q3T3D733,11

Año:

2011

CiteScore:

1,900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Energy Engineering and Power Technology37/155Q1T1D3
Electrical and Electronic Engineering222/589Q2T2D4
Condensed Matter Physics183/383Q2T2D5
Electronic, Optical and Magnetic Materials90/183Q2T2D5

SJR año:

1999

Factor de Impacto:

0,931

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Energy Engineering and Power Technology8/134Q1T1D1
Electrical and Electronic Engineering51/418Q1T1D2
Electronic, Optical and Magnetic Materials33/137Q1T1D3
Condensed Matter Physics80/311Q2T1D3
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# Autor Afiliación
1Lopez, JG University of Twente; CSIC-JA-USE - Centro Nacional de Aceleradores (CNA) (Spain)
2Blank, DHAUniversity of Twente (Netherlands)
3Rogalla, HUniversity of Twente (Netherlands)
4Siejka, JUniversité de Paris (France)