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Growth mechanism and chemical structure of amorphous hydrogenated silicon carbide (a-SiC:H) films formed by remote hydrogen microwave plasma CVD from a triethylsilane precursor: part 1

Wrobel, Aleksander M. ; Walkiewicz-Pietrzykowska, Agnieszka; Ahola, Marja; Vayrynen, I. Juhani; Ferrer Fernández, Francisco Javier; Rodríguez González-Elipe, Agustín

Tipo: Artículo
Año de Publicación: 2009
Volumen: 15
Número: 1-3
Páginas: 39 - 46
Fuente Nº Citas Fecha Actualización
scopus2629-10-2024
wos2529-10-2024
Dimensions
PlumX
Altmetric

Año: 2009

Journal Impact Factor (JIF): 1.8290

CategoríaEdiciónPosiciónCuartilTercilDecil
MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMSSCIE2/17Q1T1D1
PHYSICS, CONDENSED MATTERSCIE20/66Q2T1D3
ELECTROCHEMISTRYSCIE13/24Q3T2D6

Año:

2011

CiteScore:

2,900

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
General Chemistry86/351Q1T1D3
Surfaces and Interfaces15/49Q2T1D4
Process Chemistry and Technology13/36Q2T2D4

SJR año:

2009

Factor de Impacto:

1,043

CategoríaPosiciónCuartilTercilDecil
Chemistry (miscellaneous)64/416Q1T1D2
Process Chemistry and Technology8/43Q1T1D2
Surfaces and Interfaces18/57Q2T1D4
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# Autor Afiliación
1Wrobel, Aleksander M. Institute - Center for Molecular and Macromolecular Studies of the Polish Academy of Sciences (Poland)
2Walkiewicz-Pietrzykowska, AgnieszkaInstitute - Center for Molecular and Macromolecular Studies of the Polish Academy of Sciences (Poland)
3Ahola, MarjaTurun yliopisto (Finland)
4Vayrynen, I. JuhaniTurun yliopisto (Finland)
5Ferrer Fernández, Francisco JavierCSIC-JA-USE - Centro Nacional de Aceleradores (CNA) (Spain)
6Rodríguez González-Elipe, AgustínCSIC-USE - Instituto de Ciencia de Materiales de Sevilla (ICMS) (Spain)